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Technologieportal

 
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3569 Ergebnisse

Typ: Gerät
Einrichtung:
200 mm MEMS-Reinraum
Partner:
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS)
This is an instrument within the Dresden Fraunhofer Cluster Nanoanalysis (DFCNA). This is an instrument within the Dresden Fraunhofer Cluster Nanoanalysis (DFCNA). manufacturer: Veeco
Typ: Gerät
Einrichtung:
Analytik und Metrologie
Partner:
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS)
Physical and chemical characterization of full wafers with high throughput without affecting the functionality of the wafer dies is a key to monitor the production of semiconductor devices. At
Typ: Gerät
Einrichtung:
Analytik und Metrologie
Partner:
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS)
Raman spectroscopy utilizes inelastic scattering of laser light to locally excite and image characteristic vibrational modes in a material. This scattering process involves the excitation or decay
Typ: Gerät
Einrichtung:
Analytik und Metrologie
Partner:
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS)
Full wafer light microscopy allows images of the whole wafer. Vacuum mounting for 200 mm and 300 mm wafers ensures best handling and stable acquisition of images. Automatic data acquisition of
Typ: Gerät
Einrichtung:
Analytik und Metrologie
Partner:
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS)
Focused Ion Beam is an essential tool in modern physical failure analysis. A finely focused ion beam allows for precise cutting into a sample. This tool is indispensable for the site-specific
Typ: Gerät
Einrichtung:
Analytik und Metrologie
Partner:
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS)
Our lab AFM from Oxford Instruments is additionally equipped with PFM (piezo force microscopy) and C-AFM (conductive AFM) modes. Normally we process tapping/non-contact mode for surface roughness
Typ: Gerät
Einrichtung:
Analytik und Metrologie
Partner:
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS)
X-ray scattering probes the arrangement of atoms in a sample by utilizing the interference of X-rays scattered at lattice planes or interfaces. It provides information about structural properties
Typ: Gerät
Einrichtung:
Analytik und Metrologie
Partner:
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS)
Electron microscopy uses an electron beam to illuminate a specimen and create a magnified image. Two different types of electron microscopes are available: scanning electron microscopes (SEM,
Typ: Gerät
Einrichtung:
Analytik und Metrologie
Partner:
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS)
In time-of-flight secondary ion mass spectrometry (ToF-SIMS), a primary ion beam is used to produce monatomic and polyatomic particles (secondary ions) from the sample surface. The technique is used
Typ: Gerät
Einrichtung:
Analytik und Metrologie
Partner:
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS)
X-ray photoelectron spectroscopy is a quantitative technique that probes the chemistry of a material. When the X-ray source impinges a sample, electrons are excited by the photoelectric effect. The
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