Thin Film Stress Measurement / Eigenspannungsmessung an dünnen Schichten

Basic Information

Name:	Thin Film Stress Measurement / Eigenspannungsmessung an dünnen Schichten
Facility:	X-Ray and EUV Optics
Partner:	Fraunhofer Institute for Material and Beam Technology (IWS)

Description

Die Eigenspannungen von Einzel- und/oder Multischichten können über die Veränderung des Krümmungsradius des Substrates vor und nach der Beschichtung ermittelt werden. Unter der Voraussetzung, dass das Substrat sehr viel dicker ist als die abgeschiedene Schicht kann die sogenannte Stoney-Gleichung angewendet werden, um die Eigenspannungen s der Schicht zu berechnen.

Link to Further Details

http://www.iws.fraunhofer.de/de/geschaeftsfelder/pvd_nanotechnik/roentgen_euv-optik/technologien/charakterisierungsverfahren/stress-messplatz.html

Points of Contact

Dr. Stefan Braun

Web:

http://www.iws.fraunhofer.de/en/business_fields/pvd_nanotechnology/xray_euv_optics.html

Phone:

+49 351 83391-3432

Fax:

+49 351 83391-3314

Notes

This is a service within the Dresden Fraunhofer Cluster Nanoanalysis (DFCNA).

Associated Instruments

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Thin Film Stress Measurement System / Eigenspannungsmessgerät dünner Schichten

Last Update

Last updated at: 13 July 2017 at 11:54:16