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Thin Film Stress Measurement / Eigenspannungsmessung an dünnen Schichten

Informationen

Name:	Thin Film Stress Measurement / Eigenspannungsmessung an dünnen Schichten
Einrichtung:	EUV- und Röntgenoptik
Partner:	Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik (IWS)

Beschreibung

Die Eigenspannungen von Einzel- und/oder Multischichten können über die Veränderung des Krümmungsradius des Substrates vor und nach der Beschichtung ermittelt werden. Unter der Voraussetzung, dass das Substrat sehr viel dicker ist als die abgeschiedene Schicht kann die sogenannte Stoney-Gleichung angewendet werden, um die Eigenspannungen s der Schicht zu berechnen.

Link zu weiteren Informationen

http://www.iws.fraunhofer.de/de/geschaeftsfelder/pvd_nanotechnik/roentgen_euv-optik/technologien/charakterisierungsverfahren/stress-messplatz.html

Ansprechpartner

Dr. Stefan Braun

Web:

http://www.iws.fraunhofer.de/en/business_fields/pvd_nanotechnology/xray_euv_optics.html

Telefon:

+49 351 83391-3432

Fax:

+49 351 83391-3314

Notizen

This is a service within the Dresden Fraunhofer Cluster Nanoanalysis (DFCNA).

Zugeordnete Geräte

Name	Vorschau	Aktionen
Thin Film Stress Measurement System / Eigenspannungsmessgerät dünner Schichten

Letztes Update

Zuletzt aktualisiert am: 13. Juli 2017 um 11:54:16