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Rolle-zu-Rolle Nanoimprint Lithographie Coatema Basecoater BC 51

Informationen

Name: Rolle-zu-Rolle Nanoimprint Lithographie
Hersteller: Coatema
Modell: Basecoater BC 51
Einrichtung: Professur für laserbasierte Fertigung
Partner: Technische Universität Dresden (TUD)
Partner: Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik (IWS)
Inventarnummer: 25144653

Beschreibung

UV-NIL Modus:

Bei der UV-Nanoimprint-Lithographie (NIL) wird das Substrat mit einem UV-härtbaren Resist beschichtet, der mit einer Form bedruckt und anschließend mit UV-Licht gehärtet wird. Auf diese Weise wird eine umgekehrte Struktur der Form geschaffen.

Thermischer-NIL Modus:

Während der thermischen NIL werden die strukturierten Walzen über die Glasübergangstemperatur (Tg) erhitzt und während des Drehens gegen die Gegenwalze gedrückt, wodurch die inverse Struktur auf das thermoplastische Polymer übertragen wird.

 

Prozess Parameter UV-NIL Thermal-NIL
Imprint Temperatur bis 120 °C bis 160 °C
Vorheiztemperatur bis 200 °C bis 200 °C
Druck up to 72 N/mm² up to 200 N/mm²
Geschwindigkeit 1-50 m/min 1-50 m/min
Folienbreite 250 mm 250 mm
UV-Lampe Intensität 140 W/cm²  

 

Ansprechpartner

Prof. Dr.-Ing. Andrés F. Lasagni / Mrs. Lisa Becher (Sec.)
E-Mail:
Telefon:
+49 351 463-37844
Fax:
+49 351 463-37755

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Letztes Update

Zuletzt aktualisiert am: 12. September 2018 um 11:47:49