Vertikale Inline Beschichtungsanlage für die Entwicklung von Schichtsystemen und Technologien zur Abscheidung von optischen, elektrischen und dekorativen Funktionsschichten.

An unserer in-line Sputteranlage ILA 750 können wir Schichten, Schichtsysteme und Prozesse äußerst effizient entwickeln. Flachsubstrate aus Glas, Polykarbonat, Polymeren oder Keramiken können durch reaktive und nicht- reaktive Sputterprozesse mit Metall-, Metalloxid-, Metallnitrid- und Metalloxinitridschichten versehen werden.

Typische Substrate

• Ein- oder Zweiseitenbeschichtung von Substraten aus Metall, Kunststoff, Glas oder Keramik mit einer Substratabmessung bis 500 × 300 mm² (maximal 600 × 400 mm²) und einer maximalen Dicke von 60 mm

Aufgabenspektrum

• Entwicklung, Test und Erprobung von technologischen Komponenten und von Schlüsselkomponenten für die Abscheidung von Metallen und Oxiden unter industrienahen Bedingungen
• Entwicklung von optischen, elektrischen, dekorativen Funktionsschichten und Schichtsystemen
• Beschichtungen:
• für spezielle Untersuchungen
• für die Marktentwicklung
• zur Bemusterung beim Endkunden
• Pilotproduktion 
• Untersuchungen zur Wirtschaftlichkeit