Profil anzeigen: Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik (FEP) Geräte — Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik (FEP)
24 Ergebnisse
Versuchsanlage zur plasmaaktivierten Elektronenstrahlbedampfung
Modell: VERSA Einrichtung: Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik
Vakuumbeschichtungsanlage mit Hochleistungselektronenstrahlausrüstung (300 kW) zur plasmaaktivierten Bedampfung unter aufskalierbaren Bedingungen.
In-line – Vakuum-Beschichtungsanlage für Platten und metallische Bänder
Modell: Maxi Einrichtung: Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik
Entwicklung neuer Produkte auf der Basis von neuen Schichtsystemen und komplexen PVD-Technologien unter aufskalierbaren Bedingungen (bis zu einer Beschichtungsbreite von 500 mm).
Beschichtungsanlage für flexible Substrate (in Zusammenarbeit mit VON ARDENNE GmbH)
Modell: FOSA LabX 330 Glass Einrichtung: Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik
Beschichtungsanlage für flexible Substrate.
Anlage zur Beschichtung von Kleinteilen als Schüttgut
Modell: ALMA 1000 Einrichtung: Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik
Prototyp einer Verdampfungsanlage zur Beschichtung von Kleinteilen als Schüttgut.
In-Line Sputter-Anlage für die Präzisionsbeschichtung großer Substrate
Modell: PreSensLine Einrichtung: Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik
Die PreSensLine ist eine Beschichtungsanlage für die dynamische Beschichtung durch reaktives Puls-Magnetron-Sputtern nach dem In-line-Prinzip.
Versuchsanlage zur Modifizierung von organischen Materialien mit beschleunigten Elektronen
Modell: REAMODE Einrichtung: Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik
Die Laboranlage dient zur Modifizierung und Sterilisation/ Desinfektion von Oberflächen unter Atmosphärendruck mit dem Elektronenstrahl.
Vertikale in-line Sputter-Anlage (750 mm)
Modell: ILA 750 Einrichtung: Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik
Vertikale in-line Sputter-Anlage zur Beschichtung von Flachsubstraten, unter Reinraumbedingungen mit einer Magnetronlänge von 750 mm.
Pilotanlage für die Rolle-zu-Rolle-Beschichtung (bis 600 mm)
Modell: novoFlex®600 Einrichtung: Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik
Pilotanlage für die Rolle-zu-Rolle-Beschichtung für flexible Materialien (bis zu einer Beschichtungsbreite von 600 mm), ausgestattet mit verschiedenen Vakuumtechnologien.
Vakuumbeschichtungsanlage mit Hochleistungselektronenstrahlausrüstung (100 kW)
Modell: EMO Einrichtung: Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik
Vakuumbeschichtungsanlage mit Hochleistungselektronenstrahlausrüstung (100 kW) zur Bedampfung und zum Umschmelzen unter aufskalierbaren Bedingungen.
In-line Anlage zur nasschemischen Oberflächenbehandlung
Modell: CLAIRE Einrichtung: Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik
In-line (Reinigungs-) Anlage zur nasschemischen Oberflächenbehandlung vor der Beschichtung.
