Batchanlage zur Beschichtung von 3D - Substraten

Versuchsanlage im Produktionsmaßstab mit hoher Flexibilität, ausgestattet mit:

• zwei Dualmagnetronsystemen mit 50 kW-Pulsspannungsversorgungen,
• einer Hohlkatodenquelle zur zusätzlichen Plasmaerzeugung,
• einer Pulsspannungsquelle für die Plasma(vor-)behandlung,
• einer Einrichtung zur Substratheizung bis 700°C,
• 1-, 2- oder 3-facher Substratrotation,
• Einrichtungen zur Prozeßregelung, Meßwerterfassung und Plasmadiagnostik

Typische Substrate

• Beschichtung von Substraten dreidimensionaler Geometrie in typischen Abmessungen von 10 × 10 × 10 mm³ bis maximal 500 × 500 × 500 mm³

Aufgabenspektrum

• Schicht-, Technologie- und Verfahrensentwicklung
• Machbarkeitsstudien
• Musterbeschichtung
• Kleinserienbeschichtung
• Erprobung technologischer Komponenten