Alle Geräte dieser Einrichtung anzeigen Versuchsanlage zur 3D-Beschichtung mittels Puls-Magnetron-Sputtern UNIVERSA
Informationen
| Name: | Versuchsanlage zur 3D-Beschichtung mittels Puls-Magnetron-Sputtern | |
| Modell: | UNIVERSA | |
| Partner: | Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik (FEP) |
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Kurzbeschreibung
Versuchsanlage zur 3D-Beschichtung mittels Puls-Magnetron-Sputtern.
Beschreibung
Batchanlage zur Beschichtung von 3D - Substraten
Versuchsanlage im Produktionsmaßstab mit hoher Flexibilität, ausgestattet mit:
- zwei Dualmagnetronsystemen mit 50 kW-Pulsspannungsversorgungen,
- einer Hohlkatodenquelle zur zusätzlichen Plasmaerzeugung,
- einer Pulsspannungsquelle für die Plasma(vor-)behandlung,
- einer Einrichtung zur Substratheizung bis 700°C,
- 1-, 2- oder 3-facher Substratrotation,
- Einrichtungen zur Prozeßregelung, Meßwerterfassung und Plasmadiagnostik
Typische Substrate
- Beschichtung von Substraten dreidimensionaler Geometrie in typischen Abmessungen von 10 × 10 × 10 mm3 bis maximal 500 × 500 × 500 mm3
Aufgabenspektrum
- Schicht-, Technologie- und Verfahrensentwicklung
- Machbarkeitsstudien
- Musterbeschichtung
- Kleinserienbeschichtung
- Erprobung technologischer Komponenten
Link zu weiteren Informationen
https://www.fep.fraunhofer.de/de/Kernkompetenzen/Anlagentechnik/universa.html
Optionen der Gerätenutzung
- Dieses Gerät wird im Rahmen einer Dienstleistung oder Forschungsleistung (Kooperation) verwendet.
Ansprechpartner
Bilder
| Vorschau | Beschreibung |
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Quelle: © Fraunhofer FEP |
Fraunhofer FEP Versuchsanlage zur 3D-Beschichtung UNIVERSA |
Letztes Update
Zuletzt aktualisiert am: 7. Juni 2019 um 09:25:18