Alle Geräte dieser Einrichtung anzeigen MO-CVD Anlage zur Abscheidung von Silicium
Informationen
| Name: | MO-CVD Anlage zur Abscheidung von Silicium | |
| Einrichtung: | Professur für Halbleitertechnik (HLT) | |
| Partner: | Technische Universität Dresden (TUD) |
|
Ansprechpartner
Prof. Dr. rer. nat. J.W. Bartha/ Mrs. R. Pfennig (Secretary)
Web:
E-Mail:
Telefon:
+49 351 463-35468
Fax:
+49 351 463-37172
Letztes Update
Zuletzt aktualisiert am: 13. Juli 2017 um 11:54:08