MO-CVD Anlage zur Abscheidung von Silicium

Informationen

Name:	MO-CVD Anlage zur Abscheidung von Silicium
Einrichtung:	Professur für Halbleitertechnik (HLT)
Partner:	Technische Universität Dresden (TUD)

Prof. Dr. rer. nat. J.W. Bartha/ Mrs. R. Pfennig (Secretary)

Web:

E-Mail:

Telefon:

+49 351 463-35468

Fax:

+49 351 463-37172

Zuletzt aktualisiert am: 13. Juli 2017 um 11:54:08