Analytisches Zweistrahlsystem Focused Ion Beam und Rasterelektronenmikroskop JEOL JIB-4610F
Informationen
Name: | Analytisches Zweistrahlsystem Focused Ion Beam und Rasterelektronenmikroskop | |
Hersteller: | JEOL | |
Modell: | JIB-4610F | |
Einrichtung: | Kompetenzfeld Werkstoffcharakterisierung und -prüfung | |
Partner: | Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik (IWS) |
Kurzbeschreibung
Analytisches Zweistrahlsystem Focused Ion Beam und Rasterelektronenmikroskop - JEOL JIB-4610F
Beschreibung
- Ausstattung / Technische Daten
- Emission: JEOL In-lens-thermische Feldemissionsquelle (max. 200 nA bei 0,1 bis 30 kV)
- Ionenquelle: Ga Flüssigmetall (3 pA bis max. 90 nA bei 30 kV)
- Auflösung: 1.2 nm (bei 30kV, REM), 4 nm (bei 30 kV, SIM)
- Detektoren: SE, BSE sowie STEM zur „Live“-Präparation von durchstrahlbaren TEM-Proben
- Mikromanipulatorausstattung zur Entnahme von TEM-Proben (Fa. Kleindiek)
- Zusatzausstattung: EDX- und EBSD-Analysesystemen
- Methoden
- Hochpräzise, schädigungsarme und effektive Zielpräparation verschiedener Werkstoffe (u.a. Metalle, Kunststoffe, Verbundwerkstoffe, Schichten, Nanowerkstoffe)
- „Microfabrication“ / „Nanofabrication“:
- Herstellung vielfältiger geometrischer Strukturen
- typische Volumina: 10 μm3
- typische Genauigkeit: 10 nm
- 3D-Analytik von Werkstoffen, Tomographie und 3D Rekonstruktionen; jeweils kombinierbar mit EDX und EBSD- Analysen
- Effiziente Bearbeitung großer Flächen und Volumina durch Ionenabtrag mit Ionenströmen bis zu 90 nA
Optionen der Gerätenutzung
- Dieses Gerät wird im Rahmen einer Dienstleistung oder Forschungsleistung (Kooperation) verwendet.
Ansprechpartner
Prof. Dr. Martina Zimmermann
Web:
Telefon:
+49 351 83391-3573
Zugeordnete Dienstleistungen
Bilder
Letztes Update
Zuletzt aktualisiert am: 5. August 2019 um 10:31:22