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Anlagen zur galvanischen bzw. chemisch stromlosen Abscheidung von Metallen und Legierungen
Hersteller: Fa. RENA und Eigenbau Einrichtung: Professur für Halbleitertechnik
Rasterkraftmikroskop
Hersteller: Digital Instruments Inc. Modell: DI 3500 M Einrichtung: Professur für Halbleitertechnik
RIE/PECVD-Anlage
Hersteller: Oxford Plasma Technology Modell: Plasmalab 80 Plus Einrichtung: Professur für Festkörperelektronik


