Alle Geräte dieser Einrichtung anzeigen DUV-Lithographie Nikon NSR-S210D and NSR-2205i 1E2
Informationen
| Name: | DUV-Lithographie | |
| Hersteller: | Nikon | |
| Modell: | NSR-S210D and NSR-2205i 1E2 | |
| Einrichtung: | 200 mm MEMS-Reinraum | |
| Partner: | Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS) |
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| Inventarnummer: | DUV01 and ILINE01 | |
Beschreibung
Deep Ultraviolet (DUV) lithography is used to transfer circuit patterns onto wafers with high precision. This process involves using ultraviolet light with wavelengths of for example 365 nm , 193 nm or 248 nm, to create microscopic circuit elements that form the basis of modern integrated circuits.
DUV for 130 nm l/s and i-Line for 400 nm l/s
Optionen der Gerätenutzung
- Dieses Gerät steht Ihnen unter der Betreuung durch einen assistierenden Geräteverantwortlichen zur Nutzung zur Verfügung.
- Dieses Gerät wird im Rahmen einer Dienstleistung oder Forschungsleistung (Kooperation) verwendet.
Ansprechpartner
Zugeordnete Dienstleistungen
| Name | Vorschau | Aktionen |
|---|---|---|
| Lithographie für wafer |
Letztes Update
Zuletzt aktualisiert am: 14. Januar 2025 um 09:23:33