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Alle Geräte dieser Einrichtung anzeigen Atomlagenabscheidung (ALD) Picosun; SPTS P-300; MVD 300 Batch Reactor
Informationen
| Name: | Atomlagenabscheidung (ALD) | |
| Hersteller: | Picosun; SPTS | |
| Modell: | P-300; MVD 300 Batch Reactor | |
| Einrichtung: | 200 mm MEMS-Reinraum | |
| Partner: | Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS) |
|
| Inventarnummer: | ALD01; ALD02 | |
Beschreibung
Atomic Layer Depostion is possible with two different Instruments.
- SiO2, Al2O3 (P-300; Picosun)
- FDTS for Anti-Stiction (MVD 300 Batch Reactor, SPTS)
Optionen der Gerätenutzung
- Dieses Gerät wird im Rahmen einer Dienstleistung oder Forschungsleistung (Kooperation) verwendet.
Ansprechpartner
Zugeordnete Dienstleistungen
| Name | Vorschau | Aktionen |
|---|---|---|
| Abscheidung von Material auf Wafern |
Letztes Update
Zuletzt aktualisiert am: 14. Januar 2025 um 10:22:54