Sputtern (PVD) von Ardenne Anlagentechnik; SPTS CS400S; Sigma 204
Informationen
Name: | Sputtern (PVD) | |
Hersteller: | von Ardenne Anlagentechnik; SPTS | |
Modell: | CS400S; Sigma 204 | |
Einrichtung: | 200 mm MEMS-Reinraum | |
Partner: | Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS) | |
Inventarnummer: | PVD02; PVD03; PVD04 |
Beschreibung
Sputtering is a physical vapor deposition (PVD) technique where atoms are ejected from a solid target material due to bombardment by energetic particles and then deposited onto a substrate to form a thin film. We offer this instrument for different processes:
- Chemical Sensors and Barriers (Ta, Ta2O5, Nb, Nb2O5)
- Mirrors and Hinges (Al, TiAl, Al alloys, Al2O3)
- Interconnects (Al, AlSiCu, Ti, TiN)
Optionen der Gerätenutzung
- Dieses Gerät wird im Rahmen einer Dienstleistung oder Forschungsleistung (Kooperation) verwendet.
Ansprechpartner
Zugeordnete Dienstleistungen
Name | Vorschau | Aktionen |
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Abscheidung von Material auf Wafern |
Letztes Update
Zuletzt aktualisiert am: 14. Januar 2025 um 10:48:32