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Alle Geräte dieser Einrichtung anzeigen Gasphasenfreisetzungstechniken KLA Monarch and Xetch
Informationen
| Name: | Gasphasenfreisetzungstechniken | |
| Hersteller: | KLA | |
| Modell: | Monarch and Xetch | |
| Einrichtung: | 200 mm MEMS-Reinraum | |
| Partner: | Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS) |
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| Inventarnummer: | GPE01, GPE02 | |
Beschreibung
Gas Phase Release Techniques involve the use of gases to selectively etch or deposit materials on wafers.
- HF-GPE for SiO2
- XeF2 for a-Si X-SYS-3B:6
Optionen der Gerätenutzung
- Dieses Gerät wird im Rahmen einer Dienstleistung oder Forschungsleistung (Kooperation) verwendet.
Ansprechpartner
Letztes Update
Zuletzt aktualisiert am: 14. Januar 2025 um 12:59:44