Die Vollwafer-Lichtmikroskopie ermöglicht Bilder des gesamten Wafers. Die mögliche Fixierung der 200 bzw. 300 mm Wafer wird mittels Vakuum gewährleistet und ermöglicht eine optimale Handhabung sowie eine stabile Bildaufnahme. Die automatische Datenerfassung von vordefinierten Waferbereichen oder des gesamten Wafers erfolgt mit automatischer Tischbewegung und Stapeln in Z-Richtung (EDF-Funktion). Vergrößerungen von 2,5x (Übersicht) bis zu 150x sind möglich. Die erweiterte Fokusfunktion ermöglicht scharfe Bilder auch von Proben mit sehr hoher Topologie. Dedizierte Bereiche (Zoom) und Positionserkennung sind ebenfalls verfügbar.

Fähigkeiten

• Hellfeld / Dunkelfeld
• Interferenzkontrast in zirkular polarisiertem Licht (C-DIC)
• Untersuchung gesamter Wafer oder Waferbruchstücke
• Motorisierter Fokustrieb (5 nm) und motorisierter x-y-Scanningtisch

Equipment

• Zeiss Axio Imager KMAT
• Axio Imager.A1m

Es handelt sich um ein Instrument innerhalb des Dresdner Fraunhofer-Clusters Nanoanalyse (DFCNA).