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Alle Geräte dieser Einrichtung anzeigen Asching tfd;Tryman GIGAbatch 380M; NEO2232
Informationen
| Name: | Asching | |
| Hersteller: | tfd;Tryman | |
| Modell: | GIGAbatch 380M; NEO2232 | |
| Einrichtung: | 200 mm MEMS-Reinraum | |
| Partner: | Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS) |
|
| Inventarnummer: | ASH06; ASH07 | |
Beschreibung
Ashing is a semiconductor process used to remove photoresist or other organic materials from the wafer surface by exposing it to a plasma or reactive gas, effectively cleaning the wafer for subsequent processing steps.
We offer Ashing resist.
Optionen der Gerätenutzung
- Dieses Gerät wird im Rahmen einer Dienstleistung oder Forschungsleistung (Kooperation) verwendet.
Ansprechpartner
Zugeordnete Dienstleistungen
| Name | Vorschau | Aktionen |
|---|---|---|
| Ätzen und Reinigen von Wafern |
Letztes Update
Zuletzt aktualisiert am: 14. Januar 2025 um 13:11:06