Profil anzeigen: Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS) Geräte — Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS)
59 Ergebnisse
Evaporieren von Material auf ein Substrat
Hersteller: Evatec Modell: BAK 761 Einrichtung: 200 mm MEMS-Reinraum
Sputtern (PVD)
Hersteller: von Ardenne Anlagentechnik; SPTS Modell: CS400S; Sigma 204 Einrichtung: 200 mm MEMS-Reinraum
Chemische Niederdruck-Gasphasenabscheidung (LP-CVD)
Hersteller: Centroterm Modell: E1550 HT 320-4 Einrichtung: 200 mm MEMS-Reinraum
Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PE-CVD)
Hersteller: Applied Materials Modell: Centura Einrichtung: 200 mm MEMS-Reinraum
Atomlagenabscheidung (ALD)
Hersteller: Picosun; SPTS Modell: P-300; MVD 300 Batch Reactor Einrichtung: 200 mm MEMS-Reinraum
Beschichtung
Hersteller: tel; Osiris; Süss Modell: SK-80EX, dns& TEL-ACT8 ; Basixx ST20+; VARIXX 806; Gamma80 Einrichtung: 200 mm MEMS-Reinraum
Vorbereitung für die Lithographie von Wafern
Hersteller: ap&s Modell: 300 WB-08304 Einrichtung: 200 mm MEMS-Reinraum
DUV-Lithographie
Hersteller: Nikon Modell: NSR-S210D and NSR-2205i 1E2 Einrichtung: 200 mm MEMS-Reinraum
